日本funatech紫外线运用设备介绍
UV氧化设备主要用于超纯水生产设备。在近年来小型化的半导体、晶片、液晶面板等的制造中，为了保持高成品率，去除水中的TOC（有机物）等杂质的超纯水尽可能是必需的。
紫外线氧化装置是与后段离子交换树脂一起生产超纯水*的装置，被许多电子厂采用。
■ 典型分子的化学结合能
■ 主波长能量
■ 分解型
它是一种有效地照射由大功率低压汞灯产生的真空紫外线（184.9 nm）并氧化分解水中有机物的装置。适用于将 TOC 降低 ppb 级。
* 型号将根据安装空间、处理量和所需的 TOC 浓度进行选择。
近年来，臭氧水由于具有很强的氧化能力，被广泛用作半导体厂和液晶厂的清洗水。但是，使用后的有害臭氧水即使浓度低也对人体有害，对设备造成很大的负担，例如配管内的填料劣化，因此需要迅速分解。OR系列可在短时间内将高浓度臭氧水分解至1ppm以下。它还可以有效降低运行成本和维护频率。
■ 使用示例
它可以用作活性炭吸附的替代品。
也可提供高浓度、高流量设备。
我们有很多拆机记录。
* 机型将根据处理量和臭氧浓度进行选择。
它是一种通过低压汞灯发出的真空紫外线（184.9 nm）将氧（O3）臭氧化的装置。
由于不产生氮氧化物，因此很容易产生清洁的臭氧，不会产生对人体有不利影响的光化学烟雾或空气污染，如喉咙和气管。
臭氧产生量：0.1-2.0 g/h
体积小巧紧凑。
它消耗更少的电力并且维护成本更低。
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