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IXRF磁控离子溅射仪MSP-mini的特点

发布时间:2023-02-28 点击量:392

IXRF磁控离子溅射仪MSP-mini的特点

IXRF磁控离子溅射仪MSP-2S/MSP-Mini利用磁控电极在低电压下对样品溅射金属靶材,为SEM样品表面喷镀金属镀层,方便电镜观察,而MSP-mini是一款体积小巧,操作简便,无需通入特殊气体,使用时只需设置喷镀时间即可。

主要特点:
1. 阳极磁控型靶材水平装入:极低的放电电压减弱样品受到的例子损伤和热损伤;
2. 浮动样品台设计:使电流不通过样品,温度上升很少,同时减弱离子碰撞引起的损伤;
3. 操作简便:通过定时器控制从真空排气到启动放电电压的整个过程。
应用领域:
离子溅射仪在扫描电镜中应用十分广泛,通过向样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属消除不导电样品的荷电现象,并提高观测效率,另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳,实现不导电样品的能谱仪元素定性和半定量分析。

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一键自动镀膜。没有麻烦的操作。高性价比机器。它是MSP-1S的弟弟。
使用小目标(φ30mm)。实现低运行成本。Au 靶作为标准包含在内。展示其在桌面 SEM 预处理方面的能力。
可选的目标Ag膜具有优异的光泽度,便于透明材料表面的光学显微镜观察。
概述
本设备是一种带磁控靶的金属镀膜设备。当用光学显微镜(Ag 靶)观察透明材料的表面或用电子显微镜(Au/Ag 靶)在少量样品上涂导电膜时使用。