半导体制造行业工艺之一-光刻黄光NLT3系列介绍
光刻是半导体制造过程中不可少的工艺之一。
晶圆被光刻胶，然后进行蚀刻和掺杂过程。
NLT3-591nm系列以光刻胶不反应的波长发光，使其适用于光刻前后工艺中的设备照明，这是一种半导体制造工艺。
半导体设备照明、IC工厂照明、洁净室、黄室等
| 发光二极管波长 | 591纳米 |
|---|---|
| 预期寿命 | 工作温度 40°C 40，000 小时 * 寿命是照度为初始照度的 70% 时 |
| 工作温度 | -10°C~40°C（但不冻结） |
| 防护等级 | IP65 防护等级 |
| 电源线 | 3 米 （AWG26x2C） |
| 选择 | 安装磁铁 （ND-P03） |
|---|---|
| 型 | 绘图 | 总光通量 | 照度（1米） | 权力 | 功耗 |
|---|---|---|---|---|---|
| NLT3-10-直流-S（591纳米） | 300 流明 | 80 lx | 直流24V | 3.8瓦 | |
| NLT3-20-直流-S（591纳米） | 610 流明 | 160 lx | 8W | ||
| NLT3-30-直流-S（591纳米） | 930 流明 | 230 lx | 12W | ||
| NLT3-40-直流-S（591纳米） | 1，240 流明 | 310 lx | 16W |
