可以在不损失平行度的情况下进行样品抛光设备Rana-3介绍
Rana-3采用单独加载方式，允许您自由设置1到6个样本。
由于保持架的转速可以改变，因此保持架和圆盘可以以相同的转速进行抛光，并且抛光表面不会变得倾斜或铅笔状。
支架和圆盘均可向前或向后旋转。
可以在不损失平行度的情况下进行磨削！推荐的抛光理论指出，通过以相同的速度和方向旋转支架和盘，可以在不损失工件平行度的情况下进行磨削。
Rana-3允许您改变刀柄的旋转速度，因此可以通过沿相同方向和相同次数旋转而在不失去平行度的情况下进行磨削。
此外，抛光盘和支架都可以反向旋转，因此即使是左撇子用户也可以轻松进行手动抛光。
粗抛光 砂纸或抛光垫
盘转速200rpm/支架200rpm
精抛钻石+抛光布
盘转速50-150rpm/支架50-150rpm
压力可以在设定的秒数内自动增加或减少！配备自动增减功能，对样品加压。
可以输入从开始到设定秒数逐渐增加的压力。
可以通过设置秒数来输入设置以逐渐增加或减少压力。
抛光条件（压力/转速）可以分3个阶段变化！在一次抛光过程中可以输入和改变三步运动。（ABC设置）
对于脆性材料或锋利边缘的样品，可以从低压、低转速开始操作，逐渐改为高压、高转速。
内存可储存16种抛光条件！最多可记录 16 种抛光条件。
当需要制备多个样品时，可以记住每个样品的处理条件，从而实现高效工作。
| 电源 | 单相100V或单相200-220V 三相200-220V |
|---|---|
| 尺寸/重量 | W450 x D705（至排水口）x H500（头部抬起时为630）mm，65kg |
| 光盘尺寸 | 抛光盘：Φ250mm 铝质抛光盘：Φ250mm 磁面盘：Φ250mm * 抛光盘单独出售 |
|---|---|
| 盘转速 | 50 至 400 rpm（可在正转和反转之间切换） |
| 电机输出 | 400W（100/200V：减速电机） |
| 手术 | （防水）触摸屏，带紧急停止按钮 （数字式）带定时器自动停止 可存储16个抛光条件 ABC设置（*可分3阶段设置抛光条件） |
| 给排水功能 | 用供水旋塞打开/关闭（带供水/排水软管） |
| 支架旋转 | 50 至 200 rpm（可在正转和反转之间切换） |
|---|---|
| 电机输出 | 120W无刷电机 |
| 样品数量 | 1～6个任意选择 *φ50mm最多3个 |
| 样品架 | Φ25mm、30mm、40mm x 6 个、Φ50mm x 3 个 *定制尺寸支架和特殊夹具需咨询 *支架单独出售 |
| 压力 | 1 个样品 10 至 50N |
| 润滑器 | 标准附件（模拟流量调节型） |
| 气源 | 0.5~0.7Mpa *0.7Mpa以上需另配调节器 |
