网站首页技术中心 > 真空蒸镀装置VE-2013的特点
产品中心

Product center

真空蒸镀装置VE-2013的特点

发布时间:2024-04-12 点击量:215

真空蒸镀装置VE-2013的特点

VE-2013是一款简单的真空蒸镀装置,继承了VE-2030(我公司制造)的概念。外壳内置TMP,实现紧凑外壳。由于是台式机,所以不会占用太多空间。RP 放置在地板上。
我们使用紧凑的 TMP+RP 排气系统以低廉的价格提供清洁、高真空的蒸发系统。它消除了复杂的排气操作,只需触摸面板开关的ON/OFF控制即可实现全自动。
使用钨篮可以沉积金、铝、铬、银等。碳蒸镀采用夹具蒸镀枪型,使用特殊碳( 
SLC-30 )进行蒸镀。(不能使用φ5mm碳棒。)

image.png


购买时,您可以选择碳气相沉积电极或金属气相沉积电极。可以选择购买额外的电极。

碳蒸发电极

这是专用的碳蒸发电极。
它可以在高真空区域进行碳蒸发,从而可以形成具有优异膜质量和膜强度的碳膜。
附带的防尘盖将碳蒸气沉积的散射范围降至必要的低限度,从而减轻了清洁的负担。
使用特种碳(SLC-30)作为积碳源。
金属蒸镀电极

这是直径0.5mm钨篮专用的金属蒸镀电极。
可以轻松简便地进行金、铝、铬等的气相沉积。随附的防尘盖可最大限度地减少沉积区域并减轻清洁负担。

主要产品规格

物品规格
电源AC100V(单相100V15A)
设备尺寸宽428mm,深430mm,高550mm
(设备重量38kg)
旋转泵(外部)抽速50ℓ/min (G-50DA)
(重量11kg)
涡轮泵(内置装置)排气速度67ℓ/秒
样品台直径72毫米
气相沉积源-样品台距离可调范围:0mm 至 140mm