溅射仪SC-701MkII的特点
1852年，英国科学家格罗夫发现了飞溅现象。此时，减少成为放电管污染原因的飞溅就变得非常重要。格罗夫因第一个进行燃料电池实验而闻名。
第二次世界大战期间，光学元件增透膜的需求增加，真空设备也得到改进。
20世纪60年代以后，溅射薄膜沉积技术主要在美国开始使用。（第一台商用电子显微镜于 1965 年问世。）
在成膜技术之前，溅射现象被用作离子泵。（通过溅射将气体分子带入电极以获得更高的真空。）
这是一个拟声词，但为什么用这个词来形容真空中发生的现象呢？
据说“溅射"是描述这种现象的第一个词。它的意思是发出“吐"或“咳嗽"等声音，并传播某物或发出该声音。有些词典也说“发出咕噜声"，很多地方用它作为飞溅的意思。
目前英语中使用的 [ sputter ] 是 splutter 的同义词。
溅射[溅射]是[溅射]目前的渐进形式。虽然它用作名词“溅射"，但 [ sputter ] 也用作名词。
图像是目标散布着小爆发。
溅射和真空蒸镀是利用物理现象的成膜方法，但也有利用化学反应的CVD。
CVD [Chemical Vapor Deposition] 化学气相沉积法。这是一种将样品置于气态原料气氛中，通过化学反应在样品表面形成薄膜的方法。碳化硅膜是众所知的，但也使用金属和有机聚合物。特点是可以形成高纯度的薄膜。
另一方面，真空蒸镀和溅射被称为PVD（物理气相沉积）。当原料颗粒通过蒸发或溅射附着在样品上时形成薄膜，不涉及化学反应。
该成膜方法具有以下特征。
作为薄膜原料的颗粒具有很大的能量，对样品有很强的附着力。创造出强大的电影
可以在不改变合金和化合物等原材料的组成比的情况下形成膜。
即使是气相沉积难以实现的高熔点材料也可以成膜。
只需改变时间即可高精度控制膜厚。
通过引入反应气体，还可以形成氧化物和氮化物膜。6：能够在大面积上均匀地形成膜。
可以通过将样品放置在目标位置来进行蚀刻。
成膜速度一般较慢（因方法而异）
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