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日本三井电气mitsuiec实验性纳米烙印机

日本三井电气mitsuiec实验性纳米烙印机

产品型号: TM-03

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产品时间:2020-08-27

简要描述:日本三井电气mitsuiec实验性纳米烙印机TM-03
纳米压印法作为一种通过在树脂或玻璃上按压经过数十至数百纳米的超细加工的金属模具而在短时间内产生大量相同形状的零件的技术而引起人们的注意。该方法也大致分为通过加热软化并进一步冷却和固化的热固化方法,以及使用UV固化树脂并通过UV光固化的光固化方法。

详细说明:

日本三井电气mitsuiec实验性纳米烙印机TM-03

纳米压印法作为一种通过在树脂或玻璃上按压经过数十至数百纳米的超细加工的金属模具而在短时间内产生大量相同形状的零件的技术而引起人们的注意。该方法也大致分为通过加热软化并进一步冷却和固化的热固化方法,以及使用UV固化树脂并通过UV光固化的光固化方法。

型号TM-03

该设备是一种小型的研究设备,可以打印20 mm×20 mm的样品。迄今为止,我们已经制造出许多压印装置,它们相对较大,并且我们还不能改善世界上与压印装置有关的问题,例如研究成本负担和确保安装位置。做到了。

因此,我们创建了一种小型且不会占用实验室空间的设备,并且可以在各种条件下进行研究。该纳米压印装置主要是从大学研究和实验的角度来制造的,由于消除了纳米压印装置的昂贵引入的图像,因此我们在考虑了装置的尺寸和可用性之后也生产了这种尺寸的纳米压印装置。压印方法使用光固化方法,并且可以记录图形和表格数据。您为什么不比以往更轻松地尝试使用新技术进行现场实验?

[此设备的规格]

压印方法光固化方法
紫外线装置性能
光强度400 mW / cm2 波长最大365 mm
压剥负荷0.1〜100N
样本量20毫米x 20毫米
压机剥离速度1〜1000微米/秒
电源供应100伏交流电
样品板硅晶片/玻璃基板
设备重量约25kg

型号TM-04

型号TM-04

到目前为止,纳米压印设备已经在各个地方进行了实验,并且每天都在进行实际研究。到目前为止,我们已经制造了各种压印设备,但是还没有制造简单的压印设备。

因此,我们创建了前suo未有的纳米压印设备,其概念是“无论光固化电源的位置如何,都可以携带一个简单的便携式压印设备”。设备上装有LED型紫外线灯,并使用电机驱动器进行升降,调节升降速度的操作很简单。

最多可施加200N的压力传递压力,而Φ20则可用于基材。首先,对于那些希望通过简单的测试机廉价地打标的人来说,这是一台推荐的机器。

[此设备的规格]

压印方法光固化方法
紫外线装置性能光强度6.0 mW / cm2
波长最大370 mm
压载1〜20牛
样本量10毫米x 10毫米
压机剥离速度20毫米/秒
电源供应AC100V或
DC12V 2.3A小电池
样品板硅晶片/玻璃基板
设备尺寸

高469 x宽300 x深200(毫米)

日本三井电气mitsuiec实验性纳米烙印机TM-03

型号TMR-02

型号TMR-02

本设备使用EB曝光系统通过热固化或UV固化在大直径辊(Φ150)上雕刻刻有辊压印模具小直径辊(Φ30)的纳米图案,以形成小直径辊图案。这是一种测试辊压印设备,可将这种大直径辊式模具的纳米图案转印到薄膜上,然后将薄膜转印到大直径辊上。

[此设备的规格]

压印方法热固化法/ UV固化法
滚滚Φ300x 150
按对象0.08〜0.2吨
最大辊压负荷500N
单位面积负荷3.92牛顿/毫米²
涂布方式尺寸压制法/逗号滚模法

 

型号TM-02

型号TM-02

该装置的纳米压印装置可以通过该单元实现同时具有热固化和光固化的两种方法,并且压印是通过从顶部进行印刷压力来进行的。

除了设置所需的压力负荷/速度和剥离负荷/剥离速度以外,还可以在PC上记录研究/开发试生产所需的各种条件和测量结果,以便将来进行生产。它是在设置条件中起作用的设备。

[此设备的规格]

压印方法热固化法/光固化法
压力/加载速度(总压力)1〜1000微米/秒
最大负荷从室温到250°C
工作尺寸50 x 50毫米

【测试条件】

 

  • 负载检测
  • 压机速度
  • 剥离速度
  • 真空度/每个温度
  • 每一次


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