产品中心

Product center

  1. 2024

    12-17

    高分子材料测试用氧化劣化评估设备介绍高分子材料在环境中逐渐氧化并开始劣化。该装置采用未有的方法对材料的氧化进行定量,从而可以定量评估氧化劣化。如今,使用比原生料氧化程度更高的回收料,即使原材料相同,也会因工艺不同而导致成品性能差异,甚至因批...

  2. 2024

    12-16

    使用MA方法加速测量气体/水蒸气渗透率的研究MA方法的特点是在测量样品和连接到水蒸气或气体的QMS的空间之间提供支撑层。支架具有延迟气体流入QMS侧面空间的作用,因此可以防止更换样品时检测器侧面空间的污染。结果,QMS侧的空间始终保持高真空...

  3. 2024

    12-16

    热显微镜TM3对薄膜热射流率的测试分析随着电子及微电子器件日益呈现小型化、薄型化和多功能集成化的发展特点,电子产品的运行功率和布线密度大幅增加,使得电子元器件、集成电路在单位体积内产生的热量急剧上升。由此引起的热堆积现象愈发严重,导致电路传...

  4. 2024

    12-16

    多孔金属材料的热导率测量方法分析导热系数作为材料最重要的热物性参数,在航空航天、微电子技术、能源有效利用、核能技术、新材料开发等高新技术领域,以及石油化工、钢铁冶金、建筑节能、制冷空调等工业领域具有重要的工程应用价值,其参数值的准确测量起着...

  5. 2024

    12-12

    ditect小型高清高速摄像机HAS-U2产品介绍这是一款手掌大小的高清5.3兆像素高速相机,兼容“USB3.0高速接口”。它有两种使用方式:作为使用内置2GB记录存储器的“记忆相机”,以及使用高速串行总线的“图像采集卡相机”,实际传输速度...

  6. 2024

    12-12

    碳镀膜机与高真空蒸发设备的区别碳镀膜机主要分为仅有旋转泵排气的设备或配备涡轮泵的高真空蒸发设备。了解高真空蒸发设备性能的差异在选择设备时非常有用。旋转泵排气气相沉积设备VC-300S/W、VES-10高真空抽真空沉积设备VE-2013、VE...

  7. 2024

    12-12

    锇镀膜机HPC-20设备安装及工作空间教导锇镀膜机是一种将四氧化俄晶体升华的锇气体充满腔室,使用等离子体电离锇,并对样品进行镀膜的装置。锇等离子镀膜机具有优异的包覆性,而且由于是非晶态,因此没有颗粒状,颗粒非常细小,使得在FE-SEM等电子...

  8. 2024

    12-12

    关于磁控溅射设备MSP-8in推荐实用程序该装置是使用磁控管靶的金属镀膜装置。用于8英寸晶圆等大面积样品,以及多个样品的同时处理。MSP-8in的靶电极沿靶金属表面形成多个同心磁场,通过捕获该磁场中的电子,提高溅射靶金属的等离子体离子密度。...

  9. 2024

    12-11

    磁控溅射设备MSP-1S溅射金属粒子的比较分析该设备专用于贵金属薄膜镀膜,用于SEM观察。这是一种用贵金属涂覆SEM样品以防止充电并提高二次电子产生效率的装置。除了使用磁控管靶电极进行低压放电外,还将样品台制成浮动式,以减少电子束流入对样品...

  10. 2024

    12-11

    关于shinkuu射频溅射的说明什么是射频溅射?RF溅射是一种使用称为RF(射频)的高频带电源的溅射方法。它常被用作直流溅射无法进行的绝缘靶材的溅射电源。尽管可以溅射各种靶材,但它往往比直流溅射源更昂贵,因为它需要安装射频匹配单元等。本页面...

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